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TSMC, ASML과 12인치 포토마스크 라인 구축
2026.09.09
반도체 · 반도체소재장비
TSMC, ASML과 협력해 2031년 12인치 포토마스크 라인 구축
11:49 발행
- TSMC가 ASML과 협력해 12인치 포토마스크 전환을 추진하기 위한 이니셔티브를 결성했습니다.
- TSMC는 2031년까지 12인치 포토마스크 시험 생산라인을 구축하는 것을 목표로 합니다.
- TSMC는 해당 시스템 구축으로 생산성 향상과 비용 절감 효과를 얻어 AI 수요에 대응할 수 있을 것이라고 기대했습니다.
